トップページ助成プログラム助成実績 調査・研究への助成 高強度・高透明性ケイ素高分子超薄膜の創製とエレクトロニクス材料への応用 No.29A018 2017年度 高強度・高透明性ケイ素高分子超薄膜の創製とエレクトロニクス材料への応用 対象者 上原 宏樹(群馬大大学院・理工学府・教授) 金額 -